Вакуумна камера для вакуумного плазмового азотування металевих деталей
Номер патенту: 29008
Опубліковано: 25.12.2007
Автори: Ляшенко Борис Артемович, Рутковський Анатолій Віталійович, Калініченко Віталій Іванович
Формула / Реферат
1. Вакуумна камера для вакуумного плазмового азотування металевих деталей, що містить корпус з кришкою та дном, в якому встановлені пристрій для підвішування деталі, захисний екран, що охоплює згаданий пристрій, герметичний ввід для підключення деталі до джерела електричного струму і технологічні штуцери для відкачування повітря з порожнини вакуумної камери та подавання активних газів, яка відрізняється тим, що пристрій для підвішування деталі виконаний у вигляді основи, призначеної для її жорсткого закріплення у порожнині вакуумної камери, на основі встановлено рознімний диск, виготовлений з термостійкого пластичного електроізоляційного матеріалу, наприклад з фторопласту, в якому з боку торцевої поверхні виконаний радіальний отвір, призначений для підключення деталі до джерела електричного струму, і наскрізний осьовий отвір, призначений для закріплення у ньому підвісу для утримування деталі, виготовленого у вигляді дроту.
2. Вакуумна камера за п. 1, яка відрізняється тим, що пристрій для підвішування деталі виконаний з регулюванням висоти підвішування утримуваної деталі.
Текст
1. Вак уумна камера для вак уумно го плазмово го аз о тування ме талеви х де тале й, що містить корпус з кришкою та дном, в якому встановлені пристрій для підвішування деталі, захисний екран, що о хоплює згаданий пристрій, герметичний ввід для підключення деталі до джерела електричного стр уму і те хнологічні штуцери для ві дка чування п о ві тря з пор ожнини вак уумн о ї каме ри та п ода вання ак ти вн и х 3 29008 для закріплення у ньому підвісу для утримування деталі, виготовленого у вигляді прута. Особливістю пропонованої вакуумної камери є i те, що пристосування для підвішування деталі забезпечено пристроєм для регулювання висоти підвішування утримуваної деталі. Роз'ємний диск може бути виготовлений iз фторопласту. Пропонована конструкція дозволяє суттєво зменшити термічні навантаження, що виникають у пристосуванні під час роботи камери, оскільки у роз'ємному диску, виготовленому з термостійкого пластичного електроізоляційного мaтepiaлу, компенсуються такі навантаження за рахунок його пружного деформування. Суть пропонованої конструкції пояснена на кресленнях. На Фіг.1 - схематично показано конструкцію вакуумної камери для вакуумного плазмового азотування металевих деталей. На Фіг.2 - схематично показано конструкцію пристосування для підвішування деталі у порожнині вакуумної камери для вакуумного плазмового азотування металевих деталей. Пропонована вакуумна камера для вакуумного плазмового азотування металевих деталей, включає корпус 1 з кришкою 2 та дном 3. В порожнині вакуумної камери встановлено пристосування для підвішування деталі, виконане у вигляді основи 4, призначеної для її жорсткого закріплення у порожнині вакуумної камери i яка складається з двох трубок діаметром 15-50мм (діаметр трубок визначається в залежності від навантаження) та металевих перетинів, призначених для її жорсткого закріплення у порожнині вакуумної камери. На основі 4 горизонтально встановлено роз'ємний диск 5, виготовлений з термостійкого пластичного електроізоляційного матеріалу - фторопласту, в якому з боку торцевої поверхні виконаний радіальний отвір 6, призначений для підключення металевої деталі 7 до джерела електричного струму /не показано/ i наскрізний осьовий отвip 8, призначений для закріплення у ньому підвісу 9 для утримування металевої деталі, виготовленого у вигляді прута. На диску 5 встановлено також пристрій для регулювання висоти підвішування утримуваної металевої деталі 7, виготовлений у виглядi гвинтового механізму /не показано/. У порожнині корпуса 1 встановлено i захисний екран 10, що охоплює підвіс 9 з утримуваною металевою деталлю 7. Вакуумна камера забезпечена герметичним вводом 11 для підключення металевої деталі 7 до джерела електричного струму i те хнологічні штуцери для відкачування повітря з порожнини вакуумної камери та подання активних газів 13 (умовно показаний один). Пропоновану вакуумну камеру для вакуумного плазмового азотування металевих деталей використовують таким чином. Попередньо деталь 7, поверхню якої передбачено азотува ти, ретельно миють, знежирюють i висушують. Потім її підвішують на підвісі 9 i за допомогою пристрою для регулювання задають висоту підвішування 4 утримуваної металевої деталі 7. Герметизують корпус 1. Через відповідний штуцер 13 відкачують повітря з вакуумной камери до вакуум у 1 x10-1 1х10-4мм. рт.ст. Подають електричні потенціали на металеву деталь 7 та на захисний екран 10, виконують нагрівання деталі 7 i її іонне очищування. Потім подають до порожнини вакуумної камери активний газ - азот i виконують вакуумне плазмове азотування металевої деталі 7. Під час вакуумного плазмового азотування металевої деталі 7 рівень термічних навантажень, що виникають у пристосуванні для підвішування деталі, суттєво зменшується порівняно iз прототипом, оскільки у роз'ємному диску 5, виготовленому з термостійкого пластичного електроізоляційного матеріалу, компенсуються такі навантаження за рахунок його пружного деформування.
ДивитисяДодаткова інформація
Назва патенту англійськоюVacuum chamber for vacuum plasma nitration of metallic details
Автори англійськоюRutkovskyi Anatolii Vitaliiovych, Liashenko Borys Artemovych, Kalinichenko Vitalii Ivanovych
Назва патенту російськоюВакуумная камера для вакуумного плазменного азотирования металлических деталей
Автори російськоюРутковский Анатолий Витальевич, Ляшенко Борис Артемович, Калиниченко Виталий Иванович
МПК / Мітки
МПК: C23C 4/10
Мітки: металевих, вакуумна, плазмового, азотування, вакуумного, камера, деталей
Код посилання
<a href="https://uapatents.com/2-29008-vakuumna-kamera-dlya-vakuumnogo-plazmovogo-azotuvannya-metalevikh-detalejj.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Вакуумна камера для вакуумного плазмового азотування металевих деталей</a>
Попередній патент: Наногальванічний елемент
Наступний патент: Процес перетворення даних при електронному оприлюдненні, розміщенні та періодичному оновленні документів
Випадковий патент: Спосіб прогнозування рівня врожаю зерна кукурудзи гібриду борисфен 250мв на визначений період часу