Костюк Геннадій Ігорович

Спосіб приготування суміші з n газів заданого процентного складу

Завантаження...

Номер патенту: 112566

Опубліковано: 26.09.2016

Автори: Сердюк Ірина Віталіївна, Костюк Геннадій Ігорович, Доломанов Андрій Валентинович, Сисоєв Андрій Юрійович, Сисоєв Юрій Олександрович, Евшовіч Ірина Анатоліївна

МПК: G05D 11/00, B01F 3/02

Мітки: спосіб, приготування, заданого, процентного, газів, складу, суміші

Формула / Реферат:

Спосіб приготування суміші з N газів заданого процентного складу, що полягає в попередній підготовці змішувальної камери і подальшій подачі складових газів до відповідних заданому процентному складу парціальних тисків у змішувальну камеру, який відрізняється тим, що підготовку змішувальної камери здійснюють M-кратною подачею до тиску Рпр. в змішувальну камеру з наступним скиданням до атмосферного тиску Ратм. газу, що має максимальний...

Застосування джерела плазми як пристрою для нагріву вакуумної камери іонно-плазмової установки

Завантаження...

Номер патенту: 110362

Опубліковано: 25.12.2015

Автори: Костюк Геннадій Ігорович, Сисоєв Юрій Олександрович

МПК: F28D 20/00, H05B 7/18, C23C 14/32 ...

Мітки: застосування, вакуумної, плазми, пристрою, джерела, нагріву, установки, іонно-плазмової, камери

Формула / Реферат:

1. Застосування акумульованого тепла теплоносія, нагрітого джерелом плазми для нагріву вакуумної камери іонно-плазмової установки.2. Застосування за п. 1, яке відрізняється тим, що джерело плазми забезпечено регулятором протоки рідини, що нагрівається.3. Застосування за п. 2, яке відрізняється тим, що джерело плазми додатково містить датчик вимірювання температури рідини на її виході з джерела плазми.

Вакуумно-дугове джерело плазми

Завантаження...

Номер патенту: 110120

Опубліковано: 25.11.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: H05B 7/22

Мітки: плазми, вакуумно-дугове, джерело

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дугове джерело плазми, яке містить співвісно встановлені анод і стрижневий катод, що витрачається, прикріплений до торця анода, вузол охолодження катода, змонтований поблизу його робочої поверхні у вигляді пустотілого корпусу, що охоплює герметично бічну поверхню катода, вузол переміщення катода, розташований біля його неробочого торця, і вузол підпалу, розміщений поблизу робочої поверхні катода, яке відрізняється тим, що між...

Спосіб нанесення покриттів з плазми вакуумно-дугового розряду

Завантаження...

Номер патенту: 109681

Опубліковано: 25.09.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: C23C 14/40

Мітки: покриттів, розряду, спосіб, вакуумно-дугового, нанесення, плазми

Формула / Реферат:

1. Спосіб нанесення покриттів з плазми вакуумно-дугового розряду, що включає формування потоку плазми з матеріалу катода електродугового випарника, охолодження катода, підтримання температури робочої поверхні катода на заданому рівні та нанесення покриттів на партії виробів, який відрізняється тим, що охолодження катода здійснюють по його бічній поверхні, а підтримання температури робочої поверхні катода на заданому рівні здійснюють шляхом...

Спосіб вакуумно-дугового нанесення покриттів на деталі

Завантаження...

Номер патенту: 109451

Опубліковано: 25.08.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: C23C 14/24, C23C 14/22, C23C 14/16 ...

Мітки: покриттів, вакуумно-дугового, спосіб, деталі, нанесення

Формула / Реферат:

1. Спосіб вакуумно-дугового нанесення покриттів на деталі, що включає формування потоку плазми джерелом плазми з катодом з матеріалу покриття, що наноситься, охолодження катода, регулювання температури робочої поверхні катода та послідовне нанесення покриттів на партії деталей, який відрізняється тим, що перед нанесенням покриттів на чергову партію деталей забезпечують відсутність плазмового потоку до деталей, що оброблюються, включають...

Вакуумно-дуговий пристрій для нанесення покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 107598

Опубліковано: 26.01.2015

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: H05B 7/22, H05H 1/26, H05H 1/34 ...

Мітки: пристрій, покриттів, нанесення, вакуумно-дуговий

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дуговий пристрій для нанесення покриттів, що містить співвісно встановлені трубчастий анод, витратний стрижневий катод, розміщений з однієї сторони анода, тримач підкладки, розміщений з іншої сторони анода, соленоїд, що охоплює анод і катод, перший ступінь запуску, створений підпалюючим електродом і додатковим електродом, що охоплює катод, розрядний проміжок якого заповнений керамікою, підключений до виходу блока живлення першого...

Спосіб підготовки суміші газів заданого відсоткового складу

Завантаження...

Номер патенту: 106551

Опубліковано: 10.09.2014

Автори: Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: B01F 3/00, G05D 11/00

Мітки: спосіб, відсоткового, заданого, газів, підготовки, складу, суміші

Формула / Реферат:

Спосіб підготовки суміші газів заданого відсоткового складу, що включає послідовну подачу  дискретних порцій j-го газу в попередньо відкачану змішувальну камеру і задавання відсоткового вмісту газу в суміші числом , який відрізняється тим, що порції газів послідовно подають в змішувальну камеру в...

Установка для нанесення покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 67171

Опубліковано: 10.02.2012

Автори: Мінаєв Микола Олександрович, Сисоєв Андрій Юрійович, Сисоєв Юрій Олександрович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: C23C 14/00

Мітки: нанесення, покриттів, установка

Формула / Реферат:

1. Установка для нанесення покриттів, що містить вакуумну камеру із вакуумно-дуговим джерелом плазми і приєднаним до нього блоком живлення дугового розряду, тримач підкладки із виробами, що оброблюються, розташований всередині вакуумної камери, високовольтний блок іонного очищення із системою захисту і сполучну лінію, підключену входом до виходу високовольтного блока іонного очищення із системою захисту, а виходом до тримача підкладки і...

Спосіб підготовки суміші газів заданого відсоткового складу для технологічних установок і пристрій для його реалізації

Завантаження...

Номер патенту: 85625

Опубліковано: 10.02.2009

Автори: Євко Юрій Сергійович, Сисоєв Юрій Олександрович, Сисоєв Андрій Юрійович, Костюк Геннадій Ігорович

МПК: G05D 11/00, B01F 3/00, B01F 13/00 ...

Мітки: відсоткового, реалізації, технологічних, складу, спосіб, газів, суміші, пристрій, підготовки, заданого, установок

Формула / Реферат:

1. Спосіб підготовки суміші газів заданого відсоткового складу для технологічних установок, що включає послідовне подавання ij дискретних порцій j-го газу в попередньо відкачану змішувальну камеру і задавання відсоткового вмісту газу в суміші числом ij, який відрізняється тим, що подавання порцій газів у змішувальну камеру виконують циклічно, при цьому сумарну кількість дискретних порцій j-го газу в окремому циклі підготовки...

Спосіб нанесення покриттів у вакуумі та пристрій для його здійснення

Завантаження...

Номер патенту: 82889

Опубліковано: 26.05.2008

Автори: Романченко Владислав Георгійович, Сисоєв Андрій Юрійович, Костюк Геннадій Ігорович, Сисоєв Юрій Олександрович

МПК: C23C 14/34

Мітки: покриттів, здійснення, нанесення, пристрій, вакуумі, спосіб

Формула / Реферат:

1. Спосіб нанесення покриттів у вакуумі, що включає генерацію плазмового потоку з покривного матеріалу джерелом плазми, створення електричного поля, що прискорює іонний компонент плазмового потоку, подачею негативного потенціалу на тримач підкладки із розташованими на ньому виробами, що обробляють, подачу у вакуумну камеру газового компонента і конденсацію потоку іонів на поверхню цих виробів, який відрізняється тим, що в області осадження...