Гришкевич Олександр Дмитрович

Незбалансована циліндрична магнетронна розпилююча система

Завантаження...

Номер патенту: 102744

Опубліковано: 25.11.2015

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/00

Мітки: магнетронна, система, незбалансована, циліндрична, розпилююча

Формула / Реферат:

1. Незбалансована циліндрична магнетронна розпилююча система, що містить джерело живлення магнетронного розряду, джерело негативного зміщення підкладки, що ввімкнене між підкладкою і анодом магнетрона, анод, водоохолоджуваний трубчастий катод і розташовану в порожнині катода магнітну систему, яка відрізняється тим, що мінімальна конфігурація магнітної системи складається з одного блока трьох співвісних дискових магнітних полюсів, що...

Іонно-плазмовий пристрій інтегрованого типу для обробки внутрішніх поверхонь

Завантаження...

Номер патенту: 89038

Опубліковано: 10.04.2014

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/00

Мітки: внутрішніх, інтегрованого, іонно-плазмовий, пристрій, обробки, типу, поверхонь

Формула / Реферат:

Іонно-плазмовий пристрій інтегрованого типу для обробки внутрішніх поверхонь, що містить два плазмових пристрої магнетронного типу з відповідними системами електричного живлення, які монтуються у внутрішній порожнині оброблювального виробу співвісно з ним, катоди магнетронних пристроїв мають конічну форму із зустрічною орієнтацією конусних вершин, між якими на осі системи змонтовано спільний дисковий анод, а внутрішні магнітні полюси...

Іонно-плазмовий пристрій “гібридного” типу

Завантаження...

Номер патенту: 93833

Опубліковано: 10.03.2011

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/56, C23C 14/35

Мітки: пристрій, гібридного, іонно-плазмовий, типу

Формула / Реферат:

Іонно-плазмовий пристрій для нанесення біметалевого покриття на внутрішню поверхню феромагнітної труби, який складається з торцевого вакуумно-дугового випарювача і планарного магнетронного розпилювача з відповідними струмовідводами, газовими трубками, системами електричного живлення, керування і охолодження, який відрізняється тим, що застосовано магнетронний розпилювач радіального типу з конічним катодом, що вершиною обернений до...

Іонно-плазмова установка

Завантаження...

Номер патенту: 93471

Опубліковано: 10.02.2011

Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Гринюк Станіслав Іванович

МПК: C23C 14/56, C23C 14/35

Мітки: іонно-плазмова, установка

Формула / Реферат:

Іонно-плазмова установка для нанесення біметалевих покриттів з періодичною шаруватою структурою, що містить вакуумну камеру з системою вакуумної відкачки, трубки для подачі газу, карусельний тримач виробів, два прямокутні магнетронні розпилювачі з системою електричного живлення, що містить струмовідводи, джерело живлення магнетронного розряду і джерело напруги зміщення з пристроєм синхронізації системи живлення, яка відрізняється тим, що...

Установка для нанесення нанометричних покриттів з періодичною структурою

Завантаження...

Номер патенту: 38846

Опубліковано: 26.01.2009

Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Кучугурний Юрій Петрович

МПК: C23C 14/00

Мітки: нанесення, періодичною, покриттів, нанометричних, структурою, установка

Формула / Реферат:

Установка для нанесення нанометричних покриттів з періодичною структурою на зовнішню поверхню виробів циліндричної форми, що включає вакуумну камеру з системами вакуумного відкачування, напуску і регулювання тиску робочих газів, співвісну з вакуумною камерою систему транспортування оброблюваних виробів через робочу зону магнетронних розпилювачів з катодами, що виготовлені з різних металів, яка відрізняється тим, що містить два магнетронні...

Плазмовий пристрій

Завантаження...

Номер патенту: 38845

Опубліковано: 26.01.2009

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/00

Мітки: плазмовий, пристрій

Формула / Реферат:

1. Плазмовий пристрій для нанесення металевих і керамічних покриттів з періодичною структурою на внутрішню поверхню металевого неферомагнітного трубчатого виробу, що складається з трубчатого водоохолоджуваного катода, який розпилюється, і містить в своїй порожнині магнітну систему, концентричного йому оброблюваного трубчатого виробу, між якими включене джерело живлення розряду, який відрізняється тим, що додатково містить рухому зовнішню...

Спосіб і пристрій для нанесення іонно-плазмових покриттів на внутрішню поверхню труби

Завантаження...

Номер патенту: 71527

Опубліковано: 15.11.2004

Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Лисиченко Володимир Іванович

МПК: C23C 14/00

Мітки: пристрій, спосіб, іонно-плазмових, поверхню, внутрішню, трубі, покриттів, нанесення

Формула / Реферат:

1. Спосіб нанесення іонно-плазмових покриттів на внутрішню поверхню труби, який включає розташування оброблюваної труби в вакуумній камері, її вакуумування, очищення від забруднень, активацію і попереднє нагрівання оброблювальної поверхні іонним бомбардуванням в тліючому розряді, який відрізняється тим, що послідовно виконуються наступні операції:- внутрішня порожнина труби, що оброблюється, вакуумується;- через порожнину труби...

Плазмовий пристрій на змінному струмі для іонно-плазмової обробки внутрішньої поверхні труби

Завантаження...

Номер патенту: 71526

Опубліковано: 15.11.2004

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/00

Мітки: пристрій, змінному, плазмовий, струмі, внутрішньої, трубі, обробки, поверхні, іонно-плазмової

Формула / Реферат:

1. Плазмовий пристрій на змінному струмі для іонно-плазмової обробки внутрішньої поверхні труби, який містить один спільний електрод - анод, з'єднаний з середньою точкою вторинної обмотки трансформатора - джерела живлення розряду, два робочих електроди - катоди, з'єднані з початком і кінцем вторинної обмотки через тиристори і систему тиристорного управління (ТСУ) вмиканням розрядної і ініціюючої напруги ТСУ, який відрізняється тим, що ТСУ має...

Вакуумно-дуговий випарювач металу

Завантаження...

Номер патенту: 71525

Опубліковано: 15.11.2004

Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Лисиченко Володимир Іванович

МПК: C23C 14/00

Мітки: випарювач, металу, вакуумно-дуговий

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дуговий випарювач металу, що складається з планарного катода й охоплюючого його стабілізуючого екрана, який знаходиться під плаваючим потенціалом, а катод через джерело живлення дугового розряду сполучений з корпусом вакуумної камери, яка знаходиться під потенціалом землі і є анодом дугового розряду, який відрізняється тим, що має кільцеподібний магніт, розташований суміжно з неробочою поверхнею катода, причому зовнішній контур...

Вакуумно-дуговий випарник металу

Завантаження...

Номер патенту: 71520

Опубліковано: 15.11.2004

Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Соколова Наталія Леонідівна, Лисиченко Володимир Іванович

МПК: C23C 14/00

Мітки: вакуумно-дуговий, металу, випарник

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дуговий випарник для нанесення покриття на внутрішню поверхню виробів, що складається з вакуумної камери, анода, який може бути часткою вакуумної камери, катода, який коаксіально розташований в об'ємі анода, джерела живлення дугового розряду, ініціатора дугового розряду, магнітної системи для керування положенням катодної плями на робочій поверхні катода, яка складається з магнітної котушки, джерела електричного струму для її...

Плазмовий пристрій тріодного типу для іонно-плазмової обробки внутрішньої поверхні труб

Завантаження...

Номер патенту: 71519

Опубліковано: 15.11.2004

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/00

Мітки: тріодного, плазмовий, обробки, труб, поверхні, іонно-плазмової, внутрішньої, пристрій, типу

Формула / Реферат:

Плазмовий пристрій тріодного типу для іонно-плазмової обробки внутрішньої поверхні труби, що складається з трубчатого катода з діаметром Д1, змонтованої на катоді системи ініціювання дугового розряду, співвісної катоду циліндричної анодної конструкції з діаметром Д2, між якими ввімкнуте джерело живлення дугового розряду, співвісного їм циліндричного позитивного електрода з діаметром Д3, який через високовольтне джерело постійного струму...

Плазмовий пристрій

Завантаження...

Номер патенту: 63164

Опубліковано: 15.01.2004

Автори: Гришкевич Олександр Дмитрович, Масляний Микола Віталійович

МПК: C23C 14/00

Мітки: плазмовий, пристрій

Формула / Реферат:

1. Плазмовий пристрій для генерації радіального, безкрапельного струменю прискорених металевих іонів, що містить один або два співвісні вакуумно-дугові випарники з опозиційно розташованими катодами і розташовану співвісно з ними магнітну систему, який відрізняється тим, що анод вакуумно-дугових випарників виконано спільним, він складається з двох співвісних довгих водоохолоджуваних циліндрів з внутрішнім діаметром, рівним 2-3 діаметрам...