C23C 4/134 — C23C 4/134

Спосіб комбінованої обробки металевих поверхонь

Завантаження...

Номер патенту: 121043

Опубліковано: 27.11.2017

Автори: Зурнаджі Вадим Іванович, Чабак Юлія Геннадіївна, Єфременко Василь Георгійович, Федун Віктор Іванович, Пастухова Тетяна Василівна

МПК: C23C 4/134, C23C 4/10, C23C 4/00 ...

Мітки: металевих, обробки, спосіб, комбінованої, поверхонь

Формула / Реферат:

Спосіб комбінованої обробки металевих поверхонь, який включає в себе імпульсно-плазмову обробку (ІПО), яку проводять з використанням анода із сплаву, що вміщує в структурі карбідну або боридну евтектику та має температуру плавлення не вище 1400 °C, який відрізняється тим, що після ІПО проводять додаткову постплазмову термічну обробку, що включає в себе нагрів до температури максимальної швидкості виділення зміцнювальних фаз з аустеніту та...

Спосіб плазмового напилення

Завантаження...

Номер патенту: 111031

Опубліковано: 10.03.2016

Автори: Дубовий Олександр Миколайович, Карпеченко Антон Анатолійович, Бобров Максим Миколайович

МПК: C23C 4/134

Мітки: плазмового, напилення, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб плазмового напилення, що включає нанесення покриття на основу шляхом нагрівання та прискорення напилюваного матеріалу плазмовим струменем у бік поверхні, що напилюється, який відрізняється тим, що між анодом плазмотрона та напилюваною поверхнею накладають високовольтні електричні імпульси за допомогою джерела імпульсної напруги, анод якого підключається до напилюваної деталі, а катод - до шайби, що ізольована від анода...

Електродуговий плазмотрон для напилення покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 104896

Опубліковано: 25.02.2016

Автори: Савуляк Валерій Іванович, Панасюк Сергій Олександрович, Гайдамак Олег Леонідович, Шиліна Олена Павлівна

МПК: C23C 4/134, H05H 1/26

Мітки: напилення, електродуговий, покриттів, плазмотрон

Формула / Реферат:

Електродуговий плазмотрон для напилення покриттів, що містить співвісно і послідовно встановлені у корпусі систему охолодження сопла-анода з соплом-анодом, канали введення плазмоутворюючого газу та порошку, завихрювальне кільце, ізолятор, катод, систему охолодження катода, ізолятор корпуса та фіксуючу гайку, який відрізняється тим, що канали введення плазмоутворюючого газу та порошку виконані роздільно, канал введення порошку розташований...