C23C 4/134 — C23C 4/134

Спосіб комбінованої обробки металевих поверхонь

Завантаження...

Номер патенту: 121043

Опубліковано: 27.11.2017

Автори: Зурнаджі Вадим Іванович, Пастухова Тетяна Василівна, Федун Віктор Іванович, Чабак Юлія Геннадіївна, Єфременко Василь Георгійович

МПК: C23C 4/134, C23C 4/00, C23C 4/10 ...

Мітки: спосіб, комбінованої, металевих, обробки, поверхонь

Формула / Реферат:

Спосіб комбінованої обробки металевих поверхонь, який включає в себе імпульсно-плазмову обробку (ІПО), яку проводять з використанням анода із сплаву, що вміщує в структурі карбідну або боридну евтектику та має температуру плавлення не вище 1400 °C, який відрізняється тим, що після ІПО проводять додаткову постплазмову термічну обробку, що включає в себе нагрів до температури максимальної швидкості виділення зміцнювальних фаз з аустеніту та...

Спосіб плазмового напилення

Завантаження...

Номер патенту: 111031

Опубліковано: 10.03.2016

Автори: Дубовий Олександр Миколайович, Бобров Максим Миколайович, Карпеченко Антон Анатолійович

МПК: C23C 4/134

Мітки: спосіб, напилення, плазмового

Формула / Реферат:

Спосіб плазмового напилення, що включає нанесення покриття на основу шляхом нагрівання та прискорення напилюваного матеріалу плазмовим струменем у бік поверхні, що напилюється, який відрізняється тим, що між анодом плазмотрона та напилюваною поверхнею накладають високовольтні електричні імпульси за допомогою джерела імпульсної напруги, анод якого підключається до напилюваної деталі, а катод - до шайби, що ізольована від анода...

Електродуговий плазмотрон для напилення покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 104896

Опубліковано: 25.02.2016

Автори: Шиліна Олена Павлівна, Панасюк Сергій Олександрович, Савуляк Валерій Іванович, Гайдамак Олег Леонідович

МПК: C23C 4/134, H05H 1/26

Мітки: покриттів, електродуговий, плазмотрон, напилення

Формула / Реферат:

Електродуговий плазмотрон для напилення покриттів, що містить співвісно і послідовно встановлені у корпусі систему охолодження сопла-анода з соплом-анодом, канали введення плазмоутворюючого газу та порошку, завихрювальне кільце, ізолятор, катод, систему охолодження катода, ізолятор корпуса та фіксуючу гайку, який відрізняється тим, що канали введення плазмоутворюючого газу та порошку виконані роздільно, канал введення порошку розташований...