C23C 14/35 — з використанням магнітного поля, наприклад розпорошення магнетроном

Багатошарова підкладка та спосіб її виготовлення

Завантаження...

Номер патенту: 116064

Опубліковано: 25.01.2018

Автори: Пас Сержіо, Шміц Бруно, Сільберберґ Ерік, Шалє Даніель, Ванден Ейнде Ксавьє

МПК: C23C 28/00, C23C 14/16, C23C 14/35, C23C 14/02 ...

Мітки: багатошарова, спосіб, підкладка, виготовлення

Формула / Реферат:

1. Підкладка, що забезпечена множиною шарів, принаймні один з яких включає оксиди металів, і безпосередньо покрита шаром металевого покриття, що містить принаймні 8 мас. % нікелю і принаймні 10 мас. % хрому, причому решта є залізом, додатковими елементами і домішками, що виникають в процесі виготовлення, при цьому зазначений шар металевого покриття має безпосередньо поверх себе шар протикорозійного покриття.2. Підкладка за...

Спосіб одержання високопровідних тонких плівок на основі йодид-пентатіофосфату міді cu6ps5i як матеріалу для твердоелектролітичного джерела енергії

Завантаження...

Номер патенту: 114865

Опубліковано: 10.08.2017

Автори: Студеняк Віктор Ігорович, Куш Петер, Рибак Стефан Олександрович, Ізай Віталій Юрійович, Студеняк Ігор Петрович, Мікула Маріан

МПК: H01M 6/18, C23C 14/35

Мітки: йодид-пентатіофосфату, джерела, основі, плівок, високопровідних, міді, твердоелектролітичного, матеріалу, cu6ps5i, спосіб, тонких, енергії, одержання

Формула / Реферат:

1. Спосіб одержання високопровідних тонких плівок на основі йодид-пентатіофосфату міді Cu6PS5I як матеріалу для твердоелектролітичного джерела енергії, який відрізняється тим, що напилення здійснюють одночасно з двох магнетронів, в одному з яких використовують мішень з суперіонного матеріалу пресованого порошку Cu6PS5I, а в іншому мішень з чистої міді.2. Спосіб за п. 1, який відрізняється тим, що величину електропровідності тонких...

Механізм обертання для вакуумних установок

Завантаження...

Номер патенту: 113185

Опубліковано: 10.01.2017

Автор: Медяний Василь Уліянович

МПК: C23C 14/00, C23C 14/34, C23C 14/35 ...

Мітки: установок, механізм, обертання, вакуумних

Формула / Реферат:

1. Механізм обертання для вакуумних установок, який розташований у корпусі (17) вакуумної камери та містить обертовий пристрій з тримачами для виробів, на які наносять покриття, який відрізняється тим, що містить ведучий вал (1), не менш ніж чотири вузли обертання (2, 3, 4, 5), а обертовий пристрій виконаний у вигляді циліндричного горизонтального каркаса (8), і цей циліндричний горизонтальний каркас (8) горизонтально встановлений на...

Пристрій для отримання багатокомпонентних, багатошарових покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 112500

Опубліковано: 12.09.2016

Автори: Колесник Валерій Володимирович, Колесник Володимир Петрович, Слюсар Денис Віталійович

МПК: C23C 14/35, H01J 37/08

Мітки: отримання, багатошарових, пристрій, багатокомпонентних, покриттів

Формула / Реферат:

Пристрій для отримання багатокомпонентних, багатошарових покриттів, який містить магнітну систему, що є складовою частиною вакуумної камери, по осі якої розташований анод, коаксіально якому розташовані полюсні наконечники магнітної системи та електромагніти, катоди-мішені, виготовлені з компонентів, що становлять багатокомпонентне покриття, торцеві фланці, магнітопроводи, утримувачі деталей, який відрізняється тим, що корпус вакуумної...

Спосіб нанесення багатошарового інтерференційного покриття на оптичні елементи

Завантаження...

Номер патенту: 111931

Опубліковано: 24.06.2016

Автори: Гайдучок Володимир Григорович, Качур Наталія Володимирівна, Копко Богдан Миколайович, Самойлов Антон Володимирович, Кузьмак Роман Миронович, Сугак Дмитро Юрійович, Маслов Володимир Петрович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/08, G02B 1/10 ...

Мітки: інтерференційного, елементи, оптичні, покриття, багатошарового, нанесення, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб нанесення багатошарового інтерференційного покриття на оптичні елементи, який включає розрахунок конструкції інтерференційного покриття, розміщення вихідних оксидних плівкоутворюючих матеріалів у тиглях карусельного механізму установки електронно-променевого напилювання у вакуумі, електронно-променевим способом у вакуумі на поліровану поверхню оптичної деталі послідовно напилюють та контролюють товщину спочатку плівки з великим...

Спосіб контролю тонкоплівкового прозорого нагрівального елемента на основі оксиду олова та індію

Завантаження...

Номер патенту: 106632

Опубліковано: 25.04.2016

Автори: Дунаєвський Вадим Іванович, Назарчук Світлана Степанівна, Качур Наталія Володимирівна, Маслов Володимир Петрович, Туру Тетяна Анатоліївна

МПК: G01B 11/06, C23C 14/35, C23C 14/08 ...

Мітки: індію, тонкоплівкового, основі, олова, нагрівального, спосіб, контролю, оксиду, елемента, прозорого

Формула / Реферат:

Спосіб контролю однорідності товщини виготовлених тонкоплівкових прозорих електропровідних покриттів на основі оксидів індію та олова, який полягає в визначенні показника оптичного пропускания, який відрізняється тим, що як випромінювання використовують поляризоване світло, а топологію розподілу неоднорідності товщини визначають за допомогою аналізатора поляризованого світла, яке пройшло через зразок з покриттям.

Спосіб одержання тонких плівок cu2znsns4 (czts)

Завантаження...

Номер патенту: 103918

Опубліковано: 12.01.2016

Автори: Ковалюк Тарас Тарасович, Козярський Іван Петрович, Мар'янчук Павло Дмитрович, Солован Михайло Миколайович, Брус Віктор Васильович, Мостовий Андрій Ігорович, Козярський Дмитро Петрович, Майструк Едуард Васильович

МПК: C23C 14/35, H01L 33/00

Мітки: cu2znsns4, тонких, плівок, спосіб, одержання, czts

Формула / Реферат:

Спосіб одержання тонких плівок Cu2ZnSnS4, що включає напилення на підкладки з металевих мішеней (Zn, Sn, Сu) та подальшу сульфатацію шляхом відпалу протягом 5 хвилин в парах сірки, який відрізняється тим, що як мішені використовують сплав Cu2ZnSn (99,99 %) стехіометричного складу для подальшого нанесення плівки, яку піддають процесу сульфатації шляхом відпалу при 450±5 °C в парах сірки.

Спосіб одержання мішені плазмовим напиленням

Завантаження...

Номер патенту: 108472

Опубліковано: 12.05.2015

Автор: Білльєре Домінік

МПК: C23C 14/35, C23C 14/32, C23C 4/10, C23C 14/34 ...

Мітки: спосіб, одержання, плазмовим, мішені, напиленням

Формула / Реферат:

1. Спосіб одержання мішені плазмовим напилюванням за допомогою плазмового пальника, причому вказана мішень містить щонайменше одну сполуку на основі молібдену, який відрізняється тим, що за допомогою  плазмового напилення в атмосфері інертного газу напилюють на щонайменше одну частину поверхні мішені щонайменше одну фракцію вказаної сполуки у вигляді порошкової композиції вказаної сполуки, і тим, що під час створення мішені використовують...

Пристрій для транспортування плазмових потоків від вакуумно-дугових джерел плазми до вихідного отвору

Завантаження...

Номер патенту: 105979

Опубліковано: 10.07.2014

Автори: Білоус Віталій Арсентійович, Аксьонов Дмитро Сергійович, Аксьонов Іван Іванович

МПК: C23C 16/00, C23C 14/35, C23C 16/54 ...

Мітки: потоків, вакуумно-дугових, плазми, вихідного, пристрій, плазмових, отвору, транспортування, джерел

Формула / Реферат:

1. Пристрій для транспортування плазмових потоків від вакуумно-дугових джерел плазми до вихідного отвору, який містить два вхідних і один вихідний плазмоводи у вигляді відрізків труб, з'єднаних між собою і охоплених електромагнітними котушками, і електромагнітний засіб в місці з'єднання плазмоводів для створення магнітного поля, відбиваючого плазму від стінок вхідних плазмоводів в області їх з'єднання, який відрізняється тим, що зазначений...

Пристрій для отримання багатокомпонентних багатошарових покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 105835

Опубліковано: 25.06.2014

Автори: Колесник Валерій Володимирович, Колесник Володимир Петрович, Ткаченко Володимир Андрійович

МПК: H01J 37/08, C23C 14/35

Мітки: покриттів, багатошарових, багатокомпонентних, отримання, пристрій

Формула / Реферат:

Пристрій для отримання багатокомпонентних багатошарових покриттів поверхонь деталей, що складається з вакуумної камери, катодів-мішеней, анода та магнітної системи, який відрізняється тим, що магнітна система є складовою частиною вакуумної камери, торцеві фланці якої виготовлені з магнітного матеріалу та з'єднані магнітопроводами, на яких розташовані електромагніти, при цьому по осі вакуумної камери розташований анод, коаксіально якому...

Спосіб оцінки складу перемішаних зон в багатошарових рентгенівських дзеркалах

Завантаження...

Номер патенту: 90842

Опубліковано: 10.06.2014

Автор: Першин Юрій Павлович

МПК: C23C 14/35, C23C 28/00, G02B 1/10 ...

Мітки: зон, спосіб, перемішаних, багатошарових, складу, оцінки, рентгенівських, дзеркалах

Формула / Реферат:

1. Спосіб оцінки складу перемішаних зон в багатошарових рентгенівських дзеркалах, що полягає у нанесенні серії періодичних дзеркал на підкладки із змінною товщиною одного з компонентів, визначенні усадки періоду і порівнянні її з розрахунковими значеннями, який відрізняється тим, що разом з періодичним дзеркалом на кожну підкладку напилюють додаткове багатошарове дзеркало з іншою товщиною компонента змінної товщини, а усадку знаходять по...

Багатошарове рентгенівське дзеркало

Завантаження...

Номер патенту: 90841

Опубліковано: 10.06.2014

Автори: Першин Юрій Павлович, Севрюков Денис Валерійович, Девізенко Олександр Юрійович, Кондратенко Валерій Володимирович

МПК: C23C 14/35, G02B 1/10, C23C 28/00 ...

Мітки: багатошарове, дзеркало, рентгенівське

Формула / Реферат:

1. Багатошарове рентгенівське дзеркало, яке складається з почергових основних шарів двох або більше матеріалів і бар'єрних шарів, розташованих щонайменше на одній з міжфазних меж основних шарів, яке відрізняється тим, що бар'єрний шар складається зі сплаву проникнення з атомною щільністю більше 90 атомів/нм3.2. Багатошарове рентгенівське дзеркало за п. 1, яке відрізняється тим, що бар'єрний шар складається з бориду, карбіду, нітриду...

Спосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилювання

Завантаження...

Номер патенту: 90122

Опубліковано: 12.05.2014

Автори: Коваленко Валентина Володимирівна, Коваленко Сергій Володимирович, Пшінько Павло Олександрович, Заяць Юрій Львович

МПК: C23C 14/48, C23C 14/34, C23C 14/35, C23C 14/22 ...

Мітки: іонно-плазмового, енергії, надання, процесі, додаткової, катоду, напилювання, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб надання додаткової енергії катоду в процесі іонно-плазмового напилювання, що включає застосування у робочій камері катода, анода, магнітної системи з охолодженням, розпилення матеріалу катода за рахунок бомбардування його атомами газів або їх сумішшю при наданні катоду-мішені додаткової енергії у розрахунок на атом речовини згідно з формулою (0,1-1,1) k Тпл, де Тпл - температура плавлення речовини мішені, K; k=8,625×10-5...

Пристрій обертання для нанесення покриттів на деталі або на вироби у вакуумній камері

Завантаження...

Номер патенту: 87404

Опубліковано: 10.02.2014

Автор: Медяний Василь Уліянович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/50, C23C 14/00, C23C 14/34 ...

Мітки: вакуумний, пристрій, покриттів, нанесення, обертання, камери, деталі, вироби

Формула / Реферат:

1. Пристрій обертання для нанесення покриттів на деталі або на вироби у вакуумній камері, який містить пристосування для кріплення деталей або виробів, зачіплюючі механізми, з'єднуючі елементи, який відрізняється тим, що він містить з'єднані балками на відстані одна від одної передню підковоподібну пластину та задню підковоподібну пластину, кожна з яких розташована своєю відкритою частиною вгору, і встановлені на передній підковоподібній...

Пристрій для транспортування потоків вакуумно-дугової плазми

Завантаження...

Номер патенту: 103692

Опубліковано: 11.11.2013

Автори: Аксьонов Іван Іванович, Аксьонов Дмитро Сергійович

МПК: C23C 14/35, C23C 4/12, C23C 14/34 ...

Мітки: потоків, пристрій, вакуумно-дугової, плазми, транспортування

Формула / Реферат:

1. Пристрій для транспортування потоків вакуумно-дугової плазми, який включає плазмовід з вхідною і вихідною секціями у вигляді відрізків труб, охоплених основними електромагнітними котушками для створення транспортуючого магнітного поля, який відрізняється тим, що вхідна секція плазмоводу має кришку і дно, вихідна секція плазмоводу з'єднана з вхідною секцією через вихідний осьовий отвір у її дні, кришка вхідної секції має принаймні два...

Спосіб обробки поверхні прокатних валків

Завантаження...

Номер патенту: 103465

Опубліковано: 25.10.2013

Автори: Тюрін Юрій Миколайович, Колісніченко Олег Вікторович

МПК: C23C 14/34, C21D 9/38, C21D 1/04 ...

Мітки: спосіб, валків, прокатних, обробки, поверхні

Формула / Реферат:

1. Спосіб обробки поверхні прокатних валків, що включає деформування, хіміко-термічну й магнітно-імпульсну обробку, який відрізняється тим, що деформування, хіміко-термічну й магнітно-імпульсну обробки суміщають за циклом і здійснюють високошвидкісним плазмовим струменем, що комутує електричний струм між електродами плазмотрона й поверхнею прокатного валка через шар ударно-стиснутої плазми.2. Спосіб обробки поверхні прокатних валків...

Спосіб одержання фотолюмінісцентного шару, що не містить рідкісноземельних металів

Завантаження...

Номер патенту: 102635

Опубліковано: 25.07.2013

Автори: Назаров Олексій Миколайович, Русавський Андрій Вадимович, Локшин Михайло Маркович, Васін Андрій Володимирович, Лисенко Володимир Сергійович

МПК: C23C 14/35, H01L 21/203, C09K 11/65 ...

Мітки: містить, рідкісноземельних, металів, шару, фотолюмінісцентного, одержання, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб одержання фотолюмінісцентного шару, що включає формування шару пористого двоокису кремнію з вуглецем, який відрізняється тим, що об'єкт довільної форми, на якому потрібно сформувати шар люмінофору, розташовують у вакуумній камері установки магнетронного розпорошення, наповнюють вакуумну камеру газовою сумішшю Аr/СН4 та розпорошують встановлену у камері кремнієву мішень у суміші Аr/СН4 при температурі об'єкта 180-220 °C, доки...

Система електроживлення імпульсного джерела плазми

Завантаження...

Номер патенту: 79343

Опубліковано: 25.04.2013

Автори: Ульянов Євгеній Юрійович, Бандура Іван Миколайович

МПК: C23C 14/35

Мітки: система, імпульсного, електроживлення, плазми, джерела

Формула / Реферат:

Система електроживлення імпульсного джерела плазми, яка містить систему живлення, анод, та послідовно з'єднані підпалювач та катод, яка відрізняється тим, що містить блок баластних резисторів, вихід якого з'єднаний з входом блока конденсаторних батарей, вихід якого з'єднаний з катодом, система живлення складається з трьох послідовно з'єднаних підсилювачів, вихід третього з'єднано з входом блока баластних резисторів, а другий вихід другого...

Анодний вузол вакуумно-дугового джерела катодної плазми

Завантаження...

Номер патенту: 101443

Опубліковано: 25.03.2013

Автори: Васильєв Володимир Васильович, Стрельницький Володимир Євгенійович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/00, H05H 1/50 ...

Мітки: вузол, плазми, анодний, катодної, вакуумно-дугового, джерела

Формула / Реферат:

1. Анодний вузол вакуумно-дугового джерела катодної плазми, що містить, охоплений фокусуючою електромагнітною котушкою, анод, виконаний у вигляді відрізка труби, усередині якого коаксіально йому розміщена в електропровідному кожусі електромагнітна відхиляюча котушка, з напрямом магнітного поля назустріч магнітному полю фокусуючої електромагнітної котушки, усередині відхиляючої котушки, на її осі поблизу її торця, зверненого до вхідного...

Пристрій для вакуумного синтезу вуглецевих наноструктур

Завантаження...

Номер патенту: 98909

Опубліковано: 25.06.2012

Автори: Свавільний Микола Євгенович, Панарін Валентин Євгенович, Хомінич Анастасія Іванівна

МПК: B01J 3/03, B82B 3/00, B01J 19/08 ...

Мітки: вакуумного, синтезу, пристрій, вуглецевих, наноструктур

Формула / Реферат:

Пристрій для вакуумного синтезу вуглецевих наноструктур, який містить джерело вуглецевмісної плазми, плазмовід у вигляді вакуумної труби, що під'єднана до джерела плазми, магнітний сепаратор потоку плазми, який складається з котушок, що розміщені повздовж плазмоводу з забезпеченням можливості повороту потоку плазми на 90°, підкладку, закріплену на підігрівному столику, який встановлений на виході плазмоводу перпендикулярно потоку плазми і...

Спосіб транспортування вакуумно-дугової катодної плазми із фільтруванням від макрочасток і пристрій для його здійснення

Завантаження...

Номер патенту: 97584

Опубліковано: 27.02.2012

Автори: Стрельницький Володимир Євгенійович, Васильєв Володимир Васильович

МПК: C23C 14/35

Мітки: макрочасток, катодної, транспортування, вакуумно-дугової, фільтруванням, пристрій, плазми, спосіб, здійснення

Формула / Реферат:

1. Спосіб транспортування вакуумно-дугової катодної плазми із фільтруванням від макрочасток в плазмооптичній системі, створеній із трубчастих електродів, під дією транспортуючого магнітного поля, яке створюють з використанням електромагнітних котушок, що охоплюють трубчасті електроди плазмооптичної системи, який відрізняється тим, що транспортуюче магнітне поле має як сталу так і додаткову змінну складову, сталу складову транспортуючого...

Спосіб транспортування потоків вакуумно-дугової плазми і пристрій для його здійснення

Завантаження...

Номер патенту: 97000

Опубліковано: 26.12.2011

Автори: Стрельницький Володимир Євгенійович, Аксьонов Дмитро Сергійович, Аксьонов Іван Іванович

МПК: C23C 4/00, C23C 4/12, C23C 14/35 ...

Мітки: пристрій, вакуумно-дугової, спосіб, здійснення, потоків, транспортування, плазми

Формула / Реферат:

1. Спосіб транспортування потоків вакуумно-дугової плазми, за яким плазмові потоки пропускають через плазмовід, в якому діють на них основним транспортуючим магнітним полем, що утворюють електромагнітною котушкою з ділянкою внутрішнього поля, утворюваного всередині основного поля і направленого назустріч напрямку основного поля, який відрізняється тим, що на плазмові потоки, принаймні на одній ділянці плазмоводу з боку його вхідного отвору,...

Іонно-плазмовий пристрій “гібридного” типу

Завантаження...

Номер патенту: 93833

Опубліковано: 10.03.2011

Автор: Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/56

Мітки: пристрій, іонно-плазмовий, типу, гібридного

Формула / Реферат:

Іонно-плазмовий пристрій для нанесення біметалевого покриття на внутрішню поверхню феромагнітної труби, який складається з торцевого вакуумно-дугового випарювача і планарного магнетронного розпилювача з відповідними струмовідводами, газовими трубками, системами електричного живлення, керування і охолодження, який відрізняється тим, що застосовано магнетронний розпилювач радіального типу з конічним катодом, що вершиною обернений до...

Спосіб виготовлення багатошарових рентгенівських дзеркал

Завантаження...

Номер патенту: 57053

Опубліковано: 10.02.2011

Автори: Севрюкова Вікторія Анатоліївна, Першин Юрій Павлович, Кондратенко Валерій Володимирович, Зубарєв Євгеній Миколайович

МПК: C23C 28/00, G01N 23/083, C23C 14/35 ...

Мітки: виготовлення, спосіб, рентгенівських, дзеркал, багатошарових

Формула / Реферат:

1. Спосіб виготовлення багатошарових рентгенівських дзеркал, який полягає у вакуумуванні установки, напуску розпиляючого газу до робочого тиску, подачі напруги на мішені, які розпиляються, для підпалу розрядів і почерговому нанесенні шарів двох або більше речовин на підкладку, який відрізняється тим, що при нанесенні шарів робочий тиск і відстань мішень-підкладка вибирають так, щоб їх добуток знаходився в межах від 3 до 20...

Іонно-плазмова установка

Завантаження...

Номер патенту: 93471

Опубліковано: 10.02.2011

Автори: Гринюк Станіслав Іванович, Гришкевич Олександр Дмитрович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/56

Мітки: установка, іонно-плазмова

Формула / Реферат:

Іонно-плазмова установка для нанесення біметалевих покриттів з періодичною шаруватою структурою, що містить вакуумну камеру з системою вакуумної відкачки, трубки для подачі газу, карусельний тримач виробів, два прямокутні магнетронні розпилювачі з системою електричного живлення, що містить струмовідводи, джерело живлення магнетронного розряду і джерело напруги зміщення з пристроєм синхронізації системи живлення, яка відрізняється тим, що...

Розпилювальний пристрій для нанесення у вакуумі надпоруватих покриттів з металів або слабколетких речовин на плоскі підкладки

Завантаження...

Номер патенту: 92525

Опубліковано: 10.11.2010

Автори: Перекрестов В'ячеслав Іванович, Космінська Юлія Олександрівна, Мокренко Олександр Анатолійович

МПК: H01J 27/02, C23C 14/35, C23C 14/24 ...

Мітки: металів, речовин, слабколетких, пристрій, покриттів, плоскі, надпоруватих, вакуумі, підкладки, нанесення, розпилювальний

Формула / Реферат:

1. Розпилювальний пристрій для нанесення у вакуумі надпоруватих покриттів з металів або слабколетких речовин на плоскі підкладки, що містить анод та катод у вигляді пустотілого зрізаного конуса з отвором, зверненим до анода, зрізаний конус катода закріплений на основі, що з'єднана з охолоджуваним тримачем, і всередині пустотілого зрізаного конуса, в нижній його частині, розташована підкладка, поблизу поверхні якої розміщена заслінка, для...

Спосіб нанесення захисних і декоративних покриттів на електропровідні вироби

Завантаження...

Номер патенту: 92032

Опубліковано: 27.09.2010

Автори: Золотухін Олександр Віталійович, Ломакін Тихон Михайлович

МПК: C23C 14/24, C23C 14/32, C23C 14/35 ...

Мітки: спосіб, декоративних, покриттів, нанесення, захисних, електропровідні, вироби

Формула / Реферат:

Спосіб нанесення захисних і декоративних покриттів на електропровідні вироби, що включає попередню обробку виробів, які покривають, розміщення їх у вакуумній реакційній камері, досягнення тиску технічного вакууму і температури приблизно 300 °С, створення у камері аномального тліючого розряду, який відрізняється тим, що вироби розміщують на металевій арматурі, що обертається, яка підключена до джерела високої і опорної напруги через...

Вакуумна установка для магнетронного розпилення мішеней

Завантаження...

Номер патенту: 49697

Опубліковано: 11.05.2010

Автори: Мухін Олексій Борисович, Ніколаєнко Юрій Макарович

МПК: C23C 14/35

Мітки: розпилення, установка, магнетронного, мішеней, вакуумна

Формула / Реферат:

1. Вакуумна установка для магнетронного розпилення мішеней, головним чином для забезпечення умов епітаксійного росту багатокомпонентних плівок, наприклад, на основі манганитів, що містить: три магнетрони з примусовим водяним охолодженням, підведенням високовольтної напруги і накидними гайками для кріплення мішеней, які розміщені в металевому корпусі циліндричної форми, що герметично закривається зверху вакуумним ковпаком з прозорими вікнами...

Спосіб одержання захисних і декоративних покриттів

Завантаження...

Номер патенту: 90151

Опубліковано: 12.04.2010

Автори: Ломакін Тихон Михайлович, Золотухін Олександр Віталійович

МПК: C23C 14/32, C23C 14/00, C23C 14/24 ...

Мітки: декоративних, спосіб, захисних, одержання, покриттів

Формула / Реферат:

1. Спосіб одержання захисних і декоративних покриттів на виробах, що включає нагрів і попередню обробку виробів з розміщенням їх у вакуумній камері і вакуумування, який відрізняється тим, що після вакуумування проводять мікроочистку у плазмі аномального тліючого розряду при тиску від 2 до 6 Па у повітряній атмосфері або атмосфері, що містить 72 % азоту, 18 % кисню та 10 % аргону, при іонному струмі 0,2-1 мА/см2 протягом 5-15 хвилин, після...

Вакуумно-дугове джерело плазми

Завантаження...

Номер патенту: 87880

Опубліковано: 25.08.2009

Автори: Аксьонов Дмитро Сергійович, Аксьонов Іван Іванович, Стрельницький Володимир Євгенійович, Васильєв Володимир Васильович

МПК: C23C 14/56, C23C 14/00, C23C 14/35 ...

Мітки: джерело, плазми, вакуумно-дугове

Формула / Реферат:

1. Вакуумно-дугове джерело плазми, що включає еродуючий катод, анод, охоплений електромагнітною фокусуючою котушкою, прямолінійний плазмовід, охоплений зовнішньою електромагнітною транспортуючою котушкою, всередині якого розташована внутрішня електромагнітна відхиляюча котушка з осьовим каналом і підключенням її до джерела електроструму зустрічно до підключення транспортуючої котушки, яке відрізняється тим, що осьовий канал внутрішньої...

Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі

Завантаження...

Номер патенту: 37359

Опубліковано: 25.11.2008

Автори: Дьошин Борис Вікторович, Перекрестов В'ячеслав Іванович, Космінська Юлія Олександрівна, Мокренко Олександр Анатолійович

МПК: C23C 14/35

Мітки: нанесення, покриттів, пристрій, вакуумі

Формула / Реферат:

Пристрій для нанесення покриттів у вакуумі, що містить розпилюваний катод, співвісно якому розміщений анод, що складається з герметичного корпусу у вигляді пустотілого циліндра, нижня частина якого виконана у вигляді зрізаного конуса з розташованою в ньому односекційною водоохолоджувальною магнітною системою із постійного магніту, до торця циліндричного постійного магніту приєднаний, у вигляді зрізаного конуса, фокусуючий магнітопровід, і в...

Спосіб одержання надпоруватих шарів електропровідних матеріалів

Завантаження...

Номер патенту: 83371

Опубліковано: 10.07.2008

Автори: Перекрестов В'ячеслав Іванович, Космінська Юлія Олександрівна, Корнющенко Ганна Сергіївна

МПК: C23C 14/22, C23C 14/34, C23C 14/35 ...

Мітки: надпоруватих, електропровідних, матеріалів, спосіб, шарів, одержання

Формула / Реферат:

Спосіб одержання надпоруватих шарів електропровідних матеріалів, який включає перехід речовини з конденсованого стану в стан пари і конденсацію на підкладку за умов наближення до фазової рівноваги системи пара-конденсат при відповідних підвищених температурах осадження, який відрізняється тим, що пари речовини іонізують і конденсацію проводять на підкладку, до якої підводять від'ємний потенціал, та на поверхню росту кристалу діють потоком...

Спосіб отримування тонких напівпровідникових плівок

Завантаження...

Номер патенту: 33539

Опубліковано: 25.06.2008

Автор: Бернацький Віктор Антонович

МПК: C23C 14/35

Мітки: плівок, тонких, отримування, напівпровідникових, спосіб

Формула / Реферат:

Спосіб отримування тонких напівпровідникових плівок, який полягає в реактивному магнетронному розпиленні (РМР) металічної мішені в газовій суміші активного та інертного газів, який відрізняється тим, що в центральній частині мішені, яка не піддається магнетронному розпиленню, розміщують рідкий галій (Ga) з активатором і проводять термічне випаровування активаторів з нижчою температурою випаровування, ніж у Ga.

Спосіб іонно-плазмового напилювання (варіанти) та пристрій для його здійснення (варіанти)

Завантаження...

Номер патенту: 83263

Опубліковано: 25.06.2008

Автори: Ковтун Володимир Васильович, Калінушкін Євген Павлович, Коваленко Валентина Володимирівна

МПК: C23C 14/35, C23C 14/34, C23C 14/22, C23C 14/48 ...

Мітки: варіанти, спосіб, пристрій, напилювання, іонно-плазмового, здійснення

Формула / Реферат:

1.Спосіб іонно-плазмового напилювання з одержанням плівок зносостійких і функціональних матеріалів, який включає застосування у робочій камері катода, анода, магнітної системи з охолодженням, розпилення матеріалу катода за рахунок бомбардування його атомами газів або їх сумішшю, який відрізняється тим, що катоду-мішені додають додаткову енергію у розрахунку на атом речовини згідно з формулою: (0,1-1,1)·k·Тпл, де Тпл -...

Пристрій для формування вакуумних конденсатів

Завантаження...

Номер патенту: 80775

Опубліковано: 25.10.2007

Автори: Космінська Юлія Олександрівна, Перекрестов В'ячеслав Іванович, Корнющенко Ганна Сергіївна

МПК: C23C 14/35

Мітки: вакуумних, пристрій, конденсатів, формування

Формула / Реферат:

Пристрій для формування вакуумних конденсатів, що містить анод, за який використані стінки робочої камери, охолоджуваний водою катодний вузол циліндричної форми, який складається з мішені, виготовленої із розпилювального матеріалу, тримача мішені і магнітної системи у вигляді постійних магнітів, які забезпечують формування необхідної конфігурації магнітного поля безпосередньо над поверхнею розпилювальної мішені, та підкладку, який...

Магнетронний розпилюючий пристрій

Завантаження...

Номер патенту: 77692

Опубліковано: 15.01.2007

Автори: Бедюх Олександр Радійович, Кравченко Олександр Іванович, Кучеренко Євген Трохимович

МПК: C23C 14/35, H01J 37/32

Мітки: пристрій, розпилюючий, магнетронний

Формула / Реферат:

Магнетронний розпилюючий пристрій, що має розрядну камеру, магнітну систему з мішенню-катодом, анод, підкладкотримач та джерело живлення постійного струму, який відрізняється тим, що введена друга магнітна система з мішенню, розташована під кутом 60° - 120° до першої магнітної системи та додаткове джерело живлення, причому перше джерело живлення – низькочастотне, а додаткове – високочастотне, і обидва джерела живлення паралельно підключені до...

Вакуумний електродуговий пристрій із скривленими плазмовими каналами

Завантаження...

Номер патенту: 77299

Опубліковано: 15.11.2006

Автори: Тимошенко Олександр Іванович, Таран Валерій Семенович, Чечельницький Олег Гурійович

МПК: H05H 1/46, H01J 37/32, C23C 14/35 ...

Мітки: скривленими, електродуговий, каналами, пристрій, плазмовими, вакуумний

Формула / Реферат:

1. Вакуумний електродуговий пристрій із скривленими плазмовими каналами, який включає два зустрічних джерела плазми з фокусуючими електромагнітними котушками, які з'єднані з плазмоводом, охопленим принаймні одною відхиляючою електромагнітною котушкою, який має вихідну електромагнітну котушку, яка охоплює його вихідний отвір, який відрізняється тим, що витки відхиляючих котушок зігнуті так, що одна половина кожного витка охоплює плазмовід між...

Пристрій магнетронного розпилення матеріалів

Завантаження...

Номер патенту: 77061

Опубліковано: 16.10.2006

Автори: Кабін Олександр Вікторович, Казіміров Микола Миколайович, Кудлай Володимир Олександрович, Бєрдиєв Курбан Ходжа огли

МПК: H01J 25/00, C23C 14/35

Мітки: пристрій, матеріалів, розпилення, магнетронного

Формула / Реферат:

1. Протяжний пристрій магнетронного розпилення матеріалів, що містить систему охолодження, Ш-подібну магнітну систему з периферійних і центральних магнітів, які замкнені протилежними полюсами з магнітопроводом і розташовані на внутрішній боковій поверхні периферійної і центральної стінок магнітопроводу, екрани над магнітною системою, замкнену в ланцюг мішень, розпилювана поверхня якої розміщена між оберненими до неї полюсами магнітів, який...

Розпилювальний пристрій для нанесення покриттів у вакуумі

Завантаження...

Номер патенту: 76257

Опубліковано: 17.07.2006

Автори: Перекрестов В'ячеслав Іванович, Космінська Юлія Олександрівна

МПК: C23C 14/35

Мітки: вакуумі, покриттів, розпилювальний, пристрій, нанесення

Формула / Реферат:

1. Розпилювальний пристрій для нанесення покриттів у вакуумі, що містить анод у вигляді немагнітного герметичного циліндричного корпусу, розташований співвісно аноду пустотілий катод з корпусом у вигляді зрізаного конуса, а також встановлену всередині немагнітного герметичного циліндричного корпусу анода водоохолоджувану магнітну систему у вигляді односекційного циліндричного постійного магніту, до торця якого приєднаний фокусуючий...

Розпилювальний пристрій для нанесення покриттів у вакуумі

Завантаження...

Номер патенту: 69974

Опубліковано: 15.09.2004

Автори: Побєдін Олександр Юрійович, Перекрестов В'ячеслав Іванович, Космінська Юлія Олександрівна

МПК: C23C 14/35

Мітки: пристрій, розпилювальний, вакуумі, нанесення, покриттів

Формула / Реферат:

Розпилювальний пристрій для нанесення покриттів у вакуумі, що містить анод у вигляді герметичного циліндричного корпусу, виконаного з немагнітного матеріалу, катод у вигляді пустотілого корпусу, прикріпленого до його основи, яка з'єднана з закріпленим на ізоляторі тримачем, і встановлену в герметичному циліндричному корпусі анода співвісно катоду водоохолоджувану магнітну систему у вигляді односекційного постійного магніту циліндричної форми,...