C23C 14/26 — з використанням джерела резистивного або індуктивного нагріву

Пристрій і спосіб для приведення в стан левітації деякої кількості провідникового матеріалу

Завантаження...

Номер патенту: 89792

Опубліковано: 10.03.2010

Автори: Приєде Яніс, Глеіджм Герардус, Шаде ван Веструм Джоханнес Альфонсус Францискус Марія, Баптісте Лоран Крістоф Бернар

МПК: C23C 14/26, H05B 6/02

Мітки: спосіб, провідникового, кількості, матеріалу, приведення, левітації, стан, деякої, пристрій

Формула / Реферат:

1. Пристрій для приведення в стан левітації деякої кількості провідникового матеріалу, який складається з двох котушок, першої котушки і другої котушки, для тримання матеріалу в стані левітації з використанням перемінного електричного струму в котушці, який відрізняється тим, що обидві котушки поміщені в вакуумну камеру, в якій тиск складає щонайвище 10-3 мілібар, під час використання обидві котушки генерують перемінне електромагнітне поле,...

Пристрій і спосіб для нанесення покриття

Завантаження...

Номер патенту: 87916

Опубліковано: 25.08.2009

Автори: Шаде ван Веструм Джоханнес Альфонсус Францискус Марія, Баптісте Лоран Крістоф Бернар, Глеіджм Герардус

МПК: C23C 14/56, C23C 14/24, C23C 14/22, C23C 14/26 ...

Мітки: нанесення, спосіб, пристрій, покриття

Формула / Реферат:

1. Пристрій для нанесення покриття на підкладку з використанням фізичного осадження з парової фази, який містить вакуумну камеру, котушку, розміщену у вакуумній камері та призначену для підтримування певної кількості провідного матеріалу у стані левітації і для нагрівання й випарювання цього матеріалу за допомогою змінного електричного струму у котушці, та розміщені у котушці засоби для ізоляції котушки від матеріалу у стані левітації, який...

Установка для вакуум-плазмового напилення

Завантаження...

Номер патенту: 26322

Опубліковано: 10.09.2007

Автори: Рутковський Анатолій Віталійович, Сорока Олена Борисівна, Солових Євген Костянтинович, Антонюк Віктор Степанович, Ляшенко Борис Артемович, Ліпінська Наталія Володимирівна

МПК: C23C 14/24, C23C 14/00, C23C 14/26 ...

Мітки: установка, напилення, вакуум-плазмового

Формула / Реферат:

1. Установка для вакуум-плазмового напилення, що містить генератор плазми, систему відкачування повітря з вакуумної камери, засіб для натікання робочого газу до вакуумної камери та вакуумну камеру, в якій розташований утримувач деталі, підпалювальний електрод, катод і фокусуюча котушка, гальванічно з'єднані з генератором плазми, а також систему керування процесом вакуум-плазмового напилення, яка відрізняється тим, що у вакуумній камері між...

Джерело іонізованого парового потоку

Завантаження...

Номер патенту: 13134

Опубліковано: 15.03.2006

Автори: Кузьмичєв Анатолій Іванович, Цибульський Леонід Юрійович

МПК: C23C 14/26, C23C 14/32, C23C 14/40 ...

Мітки: парового, потоку, джерело, іонізованого

Формула / Реферат:

1. Джерело іонізованого парового потоку, що містить тигель, заповнений випаровуваним матеріалом, що розташований усередині індуктора, яке відрізняється тим, що тигель містить термоемісійну вставку, виконану у вигляді кільця з матеріалу з великою питомою термоемісією, і розташовану у верхній частині тигля.2. Джерело за п. 1, яке відрізняється тим, що тигель у своїй частині, що охоплює термоемісійну вставку, має радіальне потовщення...

Установка для вакуум-плазмового напилення

Завантаження...

Номер патенту: 4250

Опубліковано: 17.01.2005

Автори: Семон Богдан Йосипович, Ляшенко Борис Артемович, Мірненко Володимир Іванович, Рутковський Анатолій Віталійович

МПК: C23C 14/24, C23C 14/26, C23C 14/00 ...

Мітки: напилення, вакуум-плазмового, установка

Формула / Реферат:

Установка для вакуум-плазмового напилення, що містить генератор плазми, систему відкачки повітря з вакуумної камери, засіб для накачування робочого газу до вакуумної камери та вакуумну камеру, в якій розташовані: тримач виробу, підпалюючий електрод, катод і фокусуюча котушка, що гальванічно з'єднані з генератором плазми, а також систему управління процесом вакуум-плазмового напилення, яка відрізняється тим, що установка доповнена нагрівачем,...

Спосіб нанесення покриття

Завантаження...

Номер патенту: 32532

Опубліковано: 15.02.2001

Автори: Петров В'ячеслав Васильович, Богданова Олександра Василівна, Кириленко Валерій Костянтинович, Тарнай Андрій Амбросієвич, Нечипоренко Анатолій Віктрович

МПК: C23C 14/00, C23C 14/26

Мітки: покриття, спосіб, нанесення

Текст:

...у вигляді дроту шля хом витягування склоподібної маси при температурі розмякшення скла (7Ю°С) з подальшим охолодженням до кімнатної температури Оброблювану деталь закріплюють вертикально, а речовину, що випаровується, закріплюють одним кінцем у верхній частині вздовж порожнини деталі Нагрівам, виготовпений у вигляді чаші з порожниною конусоподібної форми із тантапу та оснащений резистивним елементом, установлюють з боку вільного кінця...

Спосіб отримання тонких ванадієвих плівок термічним резистивним нагрівом

Завантаження...

Номер патенту: 33147

Опубліковано: 15.02.2001

Автори: Варшава Славомир Степанович, Набитович Йосиф Дмитрович, Сусол Петро Іванович

МПК: C23C 14/26, H01C 17/075

Мітки: тонких, резистивним, спосіб, отримання, ванадієвих, плівок, термічним, нагрівом

Текст:

...заповнюють двома І більше ванадієвими стрічками,при цьому температуру випар-* нику задають в межах 1850 - 20S0 °С» температуру підкладки * ЗЬО - *Ю0 °С ,а глибина вакууму складав 9,3« І О" 5 Па, запропонована конструкція випарника дозволяв проводити процес випаровування при температурах 1850 - 20Ь0 °С»розміщення наваж* ки » ванадієвої стрічки по всі* довжині робочої частини вольфра* у О/ тервалі температур І швидкосте* випарру:вання...

Пристірй для нанесення покриття

Завантаження...

Номер патенту: 20037

Опубліковано: 25.12.1997

Автори: Дуркот Мирон Олексійович, Тарнай Андрій Амбросієвич, Петров В'ячеслав Васильович, Пісак Роман Петрович, Богданова Олександра Василівна, Таранчук Альвіан Віталієвич, Гусинка Іван Йосифович

МПК: C23C 14/26

Мітки: пристірй, покриття, нанесення

Формула / Реферат:

Пристрій для нанесення покриття, який включає   в   себе   вакуумну   камеру   з розміщеним в її порожнині резистивним випаровувачем, систему подачі речовини, що випаровується, який відрізняється тим, що резистивний випаровувач виконаний у вигляді принаймні двох екранів циліндричної форми, розміщених коаксіально один відносно одного, а кожен з екранів має отвори, причому будь-який Із отворів одного екрану зміщений відносно отвору другого...

Пристрій для напилення речовини в вакуумі

Завантаження...

Номер патенту: 16340

Опубліковано: 29.08.1997

Автори: Кохан Валентин Петрович, Петровський Олег Іванович, Корнус Володимир Григорович, Іващук Анатолій Васильович, Комаров Володимир Львович

МПК: C23C 14/26

Мітки: напилення, пристрій, речовини, вакуумі

Формула / Реферат:

Устройство для напыления вещества в ваку­уме по авт. св. № 1473369, отличающееся тем, что, с целью улучшения качества напыляемой пленки за счет увеличения скорости напыления, каждая последующая от центра спирали точка верхнего торца спирали выше, чем предыдущая, причем ве­личина подъема каждого последующего витка вы­бирается из соотношенияД< < а Ї і - він в,где д \ — величина подъема витка, м; а - капиллярная постоянная...

Випарник

Завантаження...

Номер патенту: 14443

Опубліковано: 25.04.1997

Автори: Олеськів Борис Степанович, Олеськів Степан Петрович

МПК: C23C 14/26

Мітки: випарник

Формула / Реферат:

Испаритель многокомпонентных материалов по авт.св. № 1118713, отличающийся тем, что, с целью повышения качества покрытия, выходной канал в крышке испарителя выполнен в виде двух параллельных отверстий, соединенных между со­бой третьим, причем первое отверстие выполнено со стороны выхода пара из испарителя несквозным, а второе выполнено сквозным, при этом заслонка установлена в месте сопряжения первого и третье­го отверстий.

Пристрій для дискретного випаровування матеріалів в вакуумі

Завантаження...

Номер патенту: 8142

Опубліковано: 26.12.1995

Автори: Колінько Сергій Олексійович, Іваницький Валентин Петрович, Баран Микола Юрійович, Фірцак Юрій Юрійович

МПК: C23C 14/26

Мітки: дискретного, випаровування, вакуумі, матеріалів, пристрій

Формула / Реферат:

Устройство для дискретного испарения ма­териалов в вакууме, содержащее испаритель, до­затор испаряемого материала и закрытый виброжелоб, расположенный между испарителем и дозатором, отличающееся тем, что, с целью расширения функциональных возможно­стей и повышения эффективности использования испаряемого материала при сохранении высокого качества наносимого покрытия, испаритель вы­полнен в виде тигля, верхняя поверхность которого в направлении...