Пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

1. Пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі, що містить ванну, нагрівальний пристрій, виконаний у вигляді двох електродів, при цьому катодом є деталь, на яку наносять покриття, а анодом - метал, що наноситься на поверхню деталі, який відрізняється тим, що ванна обладнана системою подачі рідкого насичуючого середовища, анод закріплено у електромагнітному вібраторі, а катод поміщений у металічний тримач.

2. Пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що як ванна використовується ебонітовий контейнер.

Текст

Дивитися

Реферат: Пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі містить ванну, нагрівальний пристрій, виконаний у вигляді двох електродів, при цьому катодом є деталь, на яку наносять покриття, а анодом - метал, що наноситься на поверхню деталі. Ванна обладнана системою подачі рідкого насичуючого середовища, анод закріплено у електромагнітному вібраторі, а катод поміщений у металічний тримач. UA 90552 U (54) ПРИСТРІЙ ДЛЯ НАНЕСЕННЯ ЕЛЕКТРОІСКРОВОГО ПОКРИТТЯ У РІДКОМУ НАСИЧУЮЧОМУ СЕРЕДОВИЩІ UA 90552 U UA 90552 U 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 Корисна модель належить до пристроїв електрофізичних та електрохімічних способів обробки, зокрема до електроіскрового легування (далі - EІЛ), і може бути застосована для нанесення зносостійкого, корозійностійкого, антифрикційного покриття на деталі, а також для зміцнення поверхонь виробів з струмопровідних матеріалів різноманітної геометричної форми. На сьогодні існує велика кількість пристроїв для електроіскрового легування, більшість з яких складається з іскрового генератора і електромагнітного вібратора (Электроискровое легирование металлических поверхностей / А.Е. Гитлевич, В.В. Михайлов, Η.Я. Парканский, В.М. Ревуцький - Кишенею: "Штинца", 1985. - 176 с.), конструкція яких передбачає проведення процесу нанесення покриття виключно на повітрі. Детальне вивчення фізики процесів, які відбуваються у металах та сплавах за умов низьких температур, при імпульсній обробці, становлять значний науковий та практичний інтерес, так як у теперішній час все більше застосування у промисловій практиці отримують технології, які ґрунтуються на використанні високоенергетичних імпульсних впливів. Зазначені впливи цілеспрямовано діють на масоперенесення, та супутні йому релаксаційні процеси, що, у свою чергу, дозволяє змінювати фізико-механічні властивості матеріалів, які обробляються (Массоперенос и фазообразование в металлах при импульсных воздействиях / В.М. Миронов, В.Ф. Мазанко, Д.С. Герцрикен, А.В. Филатов - Самара: Самарский университет, 2001. - 232 с.). Відомий пристрій для електроерозійного легування (Патент України № 85165, MПK B23I1 9/00, опубл. 11.11.2013, бюл. № 21), що містить ультразвукову коливальну систему з легуючим електродом на кінці, генератор ультразвукових коливань і генератор імпульсного струму, причому пристрій оснащений додатковою ультразвуковою коливальною системою, датчиком узгодження і блоком узгодження імпульсного генератора. Недоліком даного пристрою є те, що його конструкція не передбачає нанесення покриття у різних міжелектродних середовищах, зокрема у рідкому. Найбільш близьким аналогом пристрою, що заявляється є пристрій для нанесення покриття (Патент України № 36448, МПК В05С 9/00, опубл. 27.10.2008, бюл. № 20), що містить ванну для деталі, на яку наноситься покриття, нагрівальний елемент у вигляді двох електродів (катод, анод), причому анод виконаний з можливістю його переміщення вздовж осі деталі. Недоліками даного пристрою є: неможливість забезпечення рівномірного нанесення покриття на малогабаритні деталі, складність проведення локального зміцнення поверхні деталі, пристрій призначений виключно для нанесення покриття на повітрі. В основу корисної моделі поставлена задача розробити пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі, в якому шляхом модифікації конструкції ванни, куди вміщують деталь, забезпечується можливість проведення процесу нанесення покриття у рідкому насичуючому середовищі. Поставлена задача вирішується тим, що в пристрої для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі, що містить ванну, нагрівальний пристрій, виконаний у вигляді двох електродів, при цьому катодом є деталь, на яку наносять покриття, а анодом - метал, що наноситься на поверхню деталі, згідно з корисною моделлю, ванна обладнана системою подачі рідкого насичуючого середовища, анод закріплено у електромагнітному вібраторі, а катод поміщений у металічний тримач. Як ванна може бути використаний ебонітовий контейнер. Суть запропонованої корисної моделі пояснюється кресленням, на якому зображена схема пристрою для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі. Пристрій містить ванну 7, металічний тримач 2, в який поміщено катод 3, анод 4, закріплений у електромагнітному вібраторі 5, джерело високої напруги 6, систему подачі рідкого насичуючого середовища 7. Пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі працює таким чином. Катод 3 поміщують у металічний тримач 2, анод 4 закріплюють у електромагнітному вібраторі 5, за допомогою системи подачі рідкого насичуючого середовища 7 у ванну 7 постійно подають, наприклад рідкий азот, подають напругу з джерела високої напруги 6, процес нанесення покриття проводять при амплітуді коливання аноду 50±3 Гц, енергії розряду 1,0 Дж та тривалості імпульсу 200 мкс. ФОРМУЛА КОРИСНОЇ МОДЕЛІ 1. Пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі, що містить ванну, нагрівальний пристрій, виконаний у вигляді двох електродів, при цьому катодом є деталь, на яку наносять покриття, а анодом - метал, що наноситься на поверхню деталі, який 1 UA 90552 U відрізняється тим, що ванна обладнана системою подачі рідкого насичуючого середовища, анод закріплено у електромагнітному вібраторі, а катод поміщений у металічний тримач. 2. Пристрій за п. 1, який відрізняється тим, що як ванна використовується ебонітовий контейнер. Комп’ютерна верстка Д. Шеверун Державна служба інтелектуальної власності України, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601 2

Додаткова інформація

Автори англійською

Khranovska Kateryna Mykolaivna, Polischuk Dmytro Fedorovych, Vorona Serhii Petrovych

Автори російською

Храновская Екатерина Николаевна, Мазанко Владимир Федорович, Ворона Сергей Петрович

МПК / Мітки

МПК: B23H 9/00

Мітки: насичуючому, покриття, середовищі, пристрій, рідкому, нанесення, електроіскрового

Код посилання

<a href="http://uapatents.com/4-90552-pristrijj-dlya-nanesennya-elektroiskrovogo-pokrittya-u-ridkomu-nasichuyuchomu-seredovishhi.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для нанесення електроіскрового покриття у рідкому насичуючому середовищі</a>

Подібні патенти