Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення

Номер патенту: 9698

Опубліковано: 17.10.2005

Автори: ДАНИЛЕНКО ОЛЕНА ОЛЕКСАНДРІВНА, КРАВЧЕНКО ЮРІЙ СТЕПАНОВИЧ

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить лазер як джерело світла, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками (зразками), що підлягають обробці, і оптичним вікном для вводу і виводу оптичного випромінювання, який оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, який відрізняється тим, що фотоперетворювач містить фоторезистор, біполярний та польовий транзистори, індуктивність, ємність і два джерела постійної напруги, причому перший полюс першого джерела постійної напруги підключений до бази біполярного транзистора, емітер якого з'єднаний з витоком і підкладкою польового транзистора, а колектор через фоторезистор з'єднаний із затвором польового транзистора, першим виводом індуктивності, до якого підключена перша вихідна клема, при цьому другий вивід індуктивності підключений до першого виводу ємності і першого полюсу другого джерела постійної напруги, а другий полюс підключений до другого виводу ємності, і другого полюса першого джерела постійної напруги, які утворюють загальну шину, до якої підключена друга вихідна клема пристрою.

Текст

Корисна модель належить до області електронної техніки і може бути використана для контролю плазмових процесів в різноманітних пристроях автоматичного керування технологічними процесами. Відомий пристрій для визначення моменту закінчення процесу іонно-плазмового травлення, що має в якості джерела світла гелій-неоновий лазер промінь якого через вікно направляється у вакуумну камеру і за допомогою дзеркал направляється на поверхню зразка. Відбиваючись від неї, він потрапляє в оптичний детектор. Закінчення травлення кожного шару багатошарової стр уктури відзначається помітною зміною коефіцієнту відбиття. [див. Bochenke R.D. Vac. Technik, 1976, v.25 №7, p.195.]. Недоліком даного технічного рішення є його низька чутливість. Відомий пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, який містить лазер, що освітлює поверхню оброблюваної пластини, плазмовий реактор з оброблюваною пластиною, діафрагму, фотоприймальний елемент з отвором на кінці, що приймає розсіяне світло, відбите оброблюваною поверхнею [див. заявка Японії №1-57494, М. Кл H01L21/302, 1990]. Найбільш близьким технічним рішенням до даної корисної моделі можна вважати пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, який складається з лазера, що оптично пов'язаний з конденсором, поворотним дзеркалом, плазмовим реактором, що містить зразки та оптичне вікно, діафрагмою та фотоперетворювачем у вигляді pin-діода [див. Kleinknecht H.P.J. Electrochem. Soc., 1978, v.125, №5, p.798]. Недоліком даного пристрою є низька його чутливість. В основу корисної моделі поставлена задача створення пристрою для визначення моменту закінчення плазмового травлення, в якому за рахунок введення нових блоків і зв'язків між ними досягається можливість виміру малих значень інтенсивності відбитого поверхнею зразка лазерного випромінювання, що приводить до підвищення точності виміру контролю. Поставлена задача вирішується тим, що в пристрої для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення, що містить лазер як джерело світла, конденсор, поворотне дзеркало, діафрагму та плазмовий реактор з пластинками (зразками), що підлягають обробці і оптичним вікном для вводу і виводу оптичного випромінювання, який оптично пов'язаний з фотоперетворювачем, фотоперетворювач містить фоторезистор, біполярний та польовий транзистори, індуктивність, ємність і два джерела постійної напруги, причому перший полюс першого джерела постійної напруги підключений до бази біполярного транзистора, емітер якого з'єднаний з витоком і підкладкою польового транзистора, а колектор через фоторезистор з'єднаний із затвором польового транзистора, першим виводом індуктивності, до якого підключена перша вихідна клема, при цьому другий вивід індуктивності підключений до першого виводу ємності і першого полюсу др угого джерела постійної напруги, а другий полюс підключений до другого виводу ємності, і другого полюса першого джерела постійної напруги, які утворюють загальну шин у, до якої підключена друга ви хідна клема пристрою. Використання запропонованого пристрою суттєво підвищує точність виміру інформативного параметру за рахунок використання ємнісного елементу коливального контуру у вигляді біполярного та польового транзисторів, в якому зміна опору під дією світла перетворюється в ефективну зміну резонансної частоти, при цьому можлива лінеаризація функції перетворення шляхом вибору величини напруги живлення. На кресленні подано схему пристрою для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення. Пристрій складається з лазера 1, що оптично пов'язаний з конденсором 2, поворотним дзеркалом 3, плазмовим реактором 4, що містить вікно 5 та пластини (зразок) 6, діафрагмою 7 та фотоперетворювачем, що містить фоторезистор 8, перший вивід якого з'єднаний з колектором біполярного транзистора 10 і першим виводом індуктивності 11, а другий вивід з'єднаний з затвором польового транзистора 9, стік якого з'єднаний з першим джерелом постійної напруги 12, що з'єднане з базою біполярного транзистора 10, емітер якого з'єднаний з витоком польового транзистора 9. Другий вивід індуктивності 11 з'єднаний з ємністю 13, паралельно до якої підключено друге джерело постійної напруги 14. Вихід пристрою утворений колектором біполярного транзистора 10 і загальною шиною. Пристрій працює наступним чином. В початковий момент часу світло не діє на фоторезистор 8. Підвищенням напруги джерел постійної напруги 12 і 14 до величини, коли на електродах колектор-стік біполярного транзистора 10 і польового транзистора 9 виникає від'ємний опір, який приводить до виникнення електричних коливань у контурі, утвореного паралельним включенням повного опору з ємнісним характером на електродах колектор-стік біполярного транзистора 10 і польового транзистора 9 та індуктивним опором індуктивності 11. Ємність 13 запобігає проходженню змінного струму через друге джерело постійної напруги 14. Лазер 1 випромінює світло з певною довжиною хвилі, яке проходячи через конденсор 2 падає на поворотне дзеркало 3 і відбивається ним в плазмовий реактор 4, проходячи через вікно 5, падає на зразок 6 і відбиваючись від нього через вікно 5 і діафрагму 7 попадає на фоторезистор 8 і змінює його опір, що приводить до зміни ємнісної складової повного опору на електродах колектор-стік біполярного транзистора 10 і польового транзистора 9, а це викликає зміну резонансної частоти коливального контуру.

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Device for determining the instant of the termination of plasma etching process

Автори англійською

Kravchenko Yurii Stepanovych

Назва патенту російською

Устройство для определения момента времени окончания процесса плазменного травления

Автори російською

Кравченко Юрий Степанович

МПК / Мітки

МПК: H01L 21/302

Мітки: закінчення, травлення, процесу, визначення, плазмового, пристрій, моменту

Код посилання

<a href="http://uapatents.com/2-9698-pristrijj-dlya-viznachennya-momentu-zakinchennya-procesu-plazmovogo-travlennya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Пристрій для визначення моменту закінчення процесу плазмового травлення</a>

Подібні патенти