Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку

Завантажити PDF файл.

Формула / Реферат

Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку, який виконують при постійному струмі і зовнішній стимуляції лазерним випромінюванням, який відрізняється тим, що осадження локальних плівок цинку проводять при густині струму 0,01-0,09А/дм2 із використанням лазерного випромінювання довжиною хвилі =0,6943мкм.

Текст

Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку, який виконують при постійному струмі і зовнішній стимуляції лазерним випромінюванням, який відрізняється тим, що осадження локальних плівок цинку проводять при густині струму 0,01-0,09А/дм2 із використанням лазерного випромінювання довжиною хвилі =0,6943мкм. (19) (21) u200605425 (22) 18.05.2006 (24) 15.11.2006 (46) 15.11.2006, Бюл. № 11, 2006 р. (72) Заблудовський Володимир Олександрович, Штапенко Едуард Пилипович, Дудкіна Валентина Василівна (73) ДНІПРОПЕТРОВСЬКИЙ НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ ЗАЛІЗНИЧНОГО ТРАНСПОРТУ ІМЕНІ АКАДЕМІКА В.ЛАЗАРЯНА 3 18614 4 ку. Присутність температурного градієнту забезпе( =694нм, Wmax=2,5-3Дж), що працює у імпульсночує додатковий підвід іонів цинку, що значно підму режимі (tiмп=2-5мс, =0,1-35Гц). В раніше відовищує швидкість осадження іонів металу на мідній мих способах осадження металевих плівок здійспідложці у області опромінювання (див. табл. 1). нювалося із використанням зовнішньої стимуляції Експериментальнo обрана густина струму, при лазерним випромінюванням ближнього ІЧ та виякій процес електроосадження без лазерного димого діапазонів довжин хвиль. Застосування опромінювання візуально не спостерігається. Залазерного випромінювання у процесі електроосастосування локального лазерного нагріву прикатодження металевих плівок призводить до підвидної області при даній густині струму сприяє форщення температури межі розподілу метал / електмуванню локального цинкових покрить співрозмірроліт у області, що опромінюється. У наслідок лоних з діаметром сфокусованого лазерного промекального лазерного нагріву у області опромінюня, що дорівнює 0,5мм. вання відбувається процес відновлення іонів цинТаблиця 1 Густина струму та відповідна швидкість осадження плівок цинку, отриманих при зовнішній стимуляції лазерним випромінюванням. Густина струму (j), А/дм2 0,01 0,05 0,01 0,055 0,015 0,11 Спосіб осадження Прототип Спосіб, що пропонується Швидкість осадження, мкм/хв При отриманні точкових покрить катодна поверхня та джерело лазерного випромінювання залишаються нерухомими. Для формування локального цинкового покриття розміром, що перевищує діаметр сфокусованого лазерного променя, необхідно застосовувати сканування. Сканування катодної поверхні, на яку проводилось осадження локальних плівок цинку, відбувалось при поступа 0,09 0,1 0,105 льному русі катоду відносно нерухомого лазерного променя зі швидкістю 0,01см/с. При цьому мідну пластину переміщували у площині таким чином, що лазерний промінь викреслював на ній необхідний малюнок. Реалізовано осадження цинкових доріжок, ширина яких складала 0,5мм. Дані про умови отримання плівок і їх властивості наведені в таблиці 2. Таблиця 2 Умови лазерно-стимульованого електроосадження плівок цинку. Спосіб осадження W, кВт/см2 Прототип Спосіб, що пропонується 21 70 мкм 1,06 0,6943 Таким чином використання лазерного електроосадження плівок цинку у оптимальних умовах (W=70кВт/см2, j=0,05А/дм2, =0,6943мкм) дозволяє отримувати локальні плівки цинку, що можуть бути Комп’ютерна верстка Л. Ціхановська j, А/дм2 Ширина лінії, мм 0,05 0,05 2 0,5 Швидкість осадження, мкм/хв 0,055 0,11 використані для реставрації дефектів захисного покриття чи нанесення мікродоз припою на малорозмірні елементи топології друкованих плат. Підписне Тираж 26 прим. Міністерство освіти і науки України Державний департамент інтелектуальної власності, вул. Урицького, 45, м. Київ, МСП, 03680, Україна ДП “Український інститут промислової власності”, вул. Глазунова, 1, м. Київ – 42, 01601

Дивитися

Додаткова інформація

Назва патенту англійською

Method for local laser-stimulated electrolit precipitation of zinc films

Автори англійською

Zabludovskyi Volodymyr Oleksandrovych

Назва патенту російською

Способ локального лазерно-стимулированного электролитического осаждения пленок цинка

Автори російською

Заблудовский Владимир Александрович

МПК / Мітки

МПК: C25D 5/00

Мітки: цинку, локального, плівок, електролітичного, осадження, лазерно-стимульованого, спосіб

Код посилання

<a href="http://uapatents.com/2-18614-sposib-lokalnogo-lazerno-stimulovanogo-elektrolitichnogo-osadzhennya-plivok-cinku.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентів України">Спосіб локального лазерно-стимульованого електролітичного осадження плівок цинку</a>

Подібні патенти